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富士ゼロックスでは、複写機・複合機の高速・高画質化のキーデバイスである面発光型半導体レーザーVCSELを自社で生産しています。VCSELは複写機の心臓部ともいうべき走査型露光装置の光源に用いられ、32本のレーザービームで同時に書き込みを行い、2,400dpiの高画質を実現しています。この高画質を達成するには全発光点で均一性の高い"光出力"が求められます。
富士ゼロックスは、特色あるパッシベーション技術、あるいはドライエッチング技術を駆使して特性に均一化を図ると共に、工程ロット間のばらつきを抑えるため製造工程のひとつである酸化制御に着目。独自の「その場観察法」 OPTALO(Optical Probing Technique for AlAs Lateral Oxidation)を開発しました。酸化工程は気密封止された石英管の中で行われるため、その進行を直接観察することができません。OPTALOは酸化するウエハ内に設けた周期的パターンに白色光を照射し、その反射スペクトルの変化から酸化の進行をリアルタイムに把握、制御する方法で、製造歩留りの飛躍的な向上をもたらしました。
このように富士ゼロックスは、圧倒的な高画質や高生産性を維持するためキーデバイスを自社生産し、ダントツのモノ作りを目指しています。
【図1:32ビットを同時点灯させたVCSELアレイ素子】
【図2:VCSEL製造の様子(実装工程)】