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現像・転写プロセスのシミュレーション

中山 信行 技術開発本部
基盤技術開発部
伊藤 朋之 同上
長尾 剛次 同上
向井 博和 同上
廣岡 信行 同上
世古 丈裕 同上

ゼログラフィー現像・転写プロセスに関して、電磁界解析、粒子運動解析、構造解析に基づくシミュレーション手法を開発し、現像プロセスにおける現像剤搬送過程、一成分および二成分現像画像形成過程と、転写中のトナーおよび用紙挙動を物理モデルによって数値的に再現することが可能となった。これらプロセスで発生する濃度変動や画像抜けなどの特徴的な画像劣化や現像剤、用紙の搬送不良特性を再現し、シミュレーターの性能と有効性を検証した。これらのシミュレーターの活用により、プロセスの基礎特性把握、メカニズム解明に基づく画像の高品質化が可能になるとともに、開発工程の効率化が期待できる。

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